上海微电子装备有限公司

公司名称:上海微电子装备有限公司
英文名称:Shanghai Micro Electronics Equipment Co., Ltd.
所属地区:上海市厂商类型:设备厂商
公司网站:http://www.smee.com.cn
数据提供:上海集成电路行业协会推荐

公司简介

上海微电子装备有限公司(SMEE)成立于2002年,公司主要致力于大规模工业生产的投影光刻机研发、生产、销售与服务,公司产品可广泛应用于IC制造与先进封装、MEMS、3D-TSV、TFT-OLED、LED、Power Devices等制造领域。SMEE致力于以极致服务,造高端产品,创卓越价值,全天候、全方位、全身心地为顾客提供优质产品和技术服务。SMEE已通过ISO27001信息安全、ISO9000质量管理和ISO14001环境管理等体系的国际认证,力求为客户提供持续 、稳定、高品质的产品和服务,并履行一个优秀的高科技企业的社会责任。SMEE已建立了一整套与高科技企业相适应的知识产权管理体系与机制,先后被评为“上海市专利工作和知识产权示 范企业”、“国家级知识产权示范企业”

+ 600系列光刻机-- IC前道制造

- SSA600/20步进扫描光刻机:分辨率(Resolution):90nm or better,曝光光源(Exposure Light Source):ArF excimer laser; 
镜头倍率(Lens Reduction Ratio):1:4;硅片尺寸(Wafer Size):200mm or 300mm

- SSC600/10步进扫描光刻机:分辨率(Resolution):130nm or better;曝光光源(Exposure Light Source):KrF excimer laser; 镜头倍率(Lens Reduction Ratio):1:4;硅片尺寸(Wafer Size):200mm or 300mm

- SSB600/10步进扫描光刻机:分辨率(Resolution):280nm or better;曝光光源(Exposure Light Source):i-line mercury lamp;镜头倍率(Reduction Ratio):1:4;硅片尺寸(Wafer Size):200mm or 300mm 

+ 500系列光刻机-- IC后道、MEMS制造

- SSB500/20B步进投影光刻机:分辨率(Resolution):2um;曝光光源(Exposure Light Source):ghi-line mercury lamp;硅片尺寸(Wafer Size):200mm or 300mm

- SSB500/20M步进投影光刻机:分辨率(Resolution):2um;曝光光源(Exposure Light Source):ghi-line mercury lamp;硅片尺寸(Wafer Size):200mm or 300mm
 
+ 300系列光刻机--LED/MEMS/Power Devices制造

- SSB300/10A投影光刻机:分辨率(Resolution):0.8um;曝光光源(Exposure Light Source):i-line mercury lamp;基底尺寸(Substrate Size):2"-6"

- SSB300/10M投影光刻机:分辨率(Resolution):0.8um;曝光光源(Exposure Light Source):i-line mercury lamp;基底尺寸(Substrate Size):2"-6"
 
+ 200系列光刻机-- AM-OLED显示屏制造

- SSB200/10投影光刻机:分辨率(Resolution):1um;曝光光源(Exposure Light Source):ghi/i- line mercury lamp;基板尺寸(Wafer Diameter):200mm × 200mm

- SSB225/10投影光刻机:分辨率(Resolution):1.8um;曝光光源(Exposure Light Source):i-line mercury lamp;基板尺寸(Wafer Diameter):370mm × 470mm

- SSB245/10投影光刻机:分辨率(Resolution):1.8um;曝光光源(Exposure Light Source):i-line mercury lamp;基板尺寸(Wafer Diameter):730mm × 920mm

+ 硅片边缘曝光机系列——芯片级封装工艺应用

- SWEE100/10硅片边缘曝光机:硅片尺寸(Wafer Diameter):150mm or 200mm or 300mm;边缘曝光宽度(Edge Exclusion Range):1mm~3.5mm;边缘曝光精度(Edge Exclusion Accuracy):0.1mm

+ 精密温控系列—光刻机、刻蚀机应用

- STTP5000-1/10 TCU超精密温度控制装置:温控范围(Temperature Range):+16.50 ~ +27.50℃ (can extend to: +10 ~ +40℃);温控精度(Temperature Accuracy):±0.01℃;加热功率(Heating Capacity):2500W;制冷功率(Cooling Capacity):3500 W (22℃)
 
- STCP5000W-5/10D Chiller 高精密温度控制装置:温控范围(Temperature Range):-20 ~ +80℃(Optional series standard product:-35~ +40℃ or +20~ +90℃);温控精度(Temperature Accuracy):±0.3℃ (3500W Load);加热功率(Heating Capacity):1.8 KW;制冷功率(Cooling Capacity):4.0KW @ 20℃; 1.5KW @ -10℃(Optional series standard product: 8.0KW @ 20℃)

- STWP 系列精密温度控制装置:型号(Model):STWP4,STWP70,STWP100,STWP130;温控范围(Temperature Range):30°C~90°C;温控精度(Temperature Accuracy):±1°C;加热能力(Heating Capacity):6kW,12kW,20kW,30kW;冷却能力(Cooling Capacity):40kW,70kW,100kW,130kW